현재 FTC 1층 클린룸에 소재해 있는 Ion Milling System 으로 Etching한 샘플의 단면사진입니다. 

 

Oxide 층 위에 Tungsten을 sputtering 한 후에 Photo Resist 마스크를 etching 마스크로 사용하여 test한 결과인데 

Ion Milling System etching 과정중 redeposition 영향으로

오른쪽 Photo Resist 마스크의 테두리부분으로 벽이 생긴 현상이 신기합니다.

 

샘플은 Photo Resist를 제거한 후에, SEM으로 분석하였습니다. 

 

흡사 사람의 손을 연상시키는 사진으로 수십nm급 두께의 벽이 생긴 사실이 놀라울 따름입니다.